製品 ＆ サービス

オゾン発生器

半導体製造プロセス向けに、高純度・高濃度のオゾンガスを安定供給するオゾン発生器です。

オゾン濃度と流量を精密に制御でき、ALD成膜、アッシング、ウェーハ洗浄などの工程に対応。         

• 最大オゾン濃度：400 g/Nm³
• 流量範囲：0.5～50 slm
• 高応答・高安定な閉ループ制御
• 低メタル汚染、パーティクル・二次汚染を抑制
• モジュール構造により保守・メンテナンスが容易

用途や必要濃度に応じて、高性能モデルからコンパクトな石英式モデルまで提案可能です。

オゾン分析計

紫外線吸収法を採用し、オゾン濃度を高精度に測定します。気体用・水中用の各モデルを用意しており、

半導体製造設備や洗浄プロセスにおける濃度管理に適しています。

• オゾンガス・オゾン水の濃度測定に対応

測定精度：0.1 ppm

• 高精度なデュアル光路方式
• RS485／RS232通信対応
• 石英、電解研磨ステンレス、PTFEなど高耐食材料を採用