オゾンシステム

半導体製造プロセス向けに、オゾンの生成・供給・濃度管理・分解までを一体化したシステムをご提案します。高純度、高安定性、安全性を重視した設計により、洗浄、成膜、アッシングなど幅広い工程に対応します。

オゾンガス設備

高純度オゾンガスを安定してプロセス装置へ供給するシステムです。耐食性配管と高精度制御技術を採用し、オゾン濃度の変動や輸送時の減衰を抑えます。

安定した濃度・流量制御

低パーティクル、低金属汚染設計

モジュール構造による優れた拡張性

ALD、ALE、SACVD、UV Cureなどに対応

コンパクトタイプも選択可能

オゾン水設備

高純度オゾンを超純水に効率よく溶解し、高濃度オゾン水を安定供給するシステムです。半導体ウェーハの湿式洗浄に適しており、有機物、パーティクル、金属不純物の除去に使用できます。

高効率な気液混合と気泡除去

閉ループ制御による安定した濃度管理

オゾン水濃度計・オゾン分解装置を搭載可能

回収・再利用システムに対応

用途に応じた流量・供給圧力のカスタマイズが可能